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Immunology of Recurrent Pregnancy Loss and Implantation Failure, Fachbücher von Joanna Kwak-Kim
Die Immunologie des wiederholten Schwangerschaftsverlusts bietet Ärzten und Immunologen die Informationen, die sie benötigen, um Paaren zu helfen, die unter wiederholten Schwangerschaftsverlusten leiden. Die Abschnitte behandeln unerklärte Unfruchtbarkeit, wiederholte In-vitro-Fertilisation, Misserfolge bei der Embryotransfer und eine Vorgeschichte von Schwangerschaftsverlusten im zweiten oder dritten Trimester unbekannter Ursache sowie Schwangerschaften mit einer Vorgeschichte von oder aktiven autoimmunen und/oder alloimmunen Erkrankungen. Reproduktiver Versagen, einschliesslich wiederholter Schwangerschaftsverluste und wiederholter Implantationsfehler, ist eher ein Syndrom als eine Krankheit, verursacht durch multiple Ätiologien wie anatomische, endokrine, genetische, infektiöse, immunologische, thrombotische und unerklärte Faktoren. Dieses Buch bemüht sich, die neuesten Informationen zu präsentieren. In 27 Kapiteln, die in 5 Abschnitte unterteilt sind, führt das Buch die aktuellen Updates zu Themen der reproduktiven Immunologie im Zusammenhang mit reproduktivem Versagen ein und bietet systematische diagnostische Richtlinien, systemische und immunologische Ätiologien sowie therapeutische Ansätze.
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Ion Implantation and Synthesis of Materials, Fachbücher von Michael Nastasi, James W Mayer
"Ion Implantation and Synthesis of Materials" ist ein Fachbuch, das sich mit der Physik und Materialwissenschaft der Ionenimplantation sowie der Modifikation von Materialien durch Ionenstrahlen beschäftigt. Es beleuchtet die entscheidende Rolle der Ionenimplantation in der Technologie integrierter Schaltungen, wo häufig mehrere Implantationsschritte erforderlich sind, um die gewünschten elektrischen Eigenschaften zu erzielen. Das Buch behandelt die Wechselwirkungen zwischen Ionen und Festkörpern, die zur Vorhersage von Ionenreichweiten, Ionenstreuung und Gitterstörungen verwendet werden. Darüber hinaus werden wichtige Themen wie die Bildung flacher Übergänge und die Verwendung von Wasserstoffionenstrahlen zum Schneiden von Silizium behandelt. Die Inhalte sind für Fachleute und Studierende der Materialwissenschaften und der Halbleitertechnologie von Bedeutung, da sie die Grundlagen und Anwendungen der Ionenstrahlverarbeitung umfassend darstellen.
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